纳米压印微纳器件技术规格文档

一、企业联系信息

• 公司全称：江苏优众微纳半导体科技有限公司

二、技术参数说明

2.1 微纳结构器件参数

• 制程精度：5 nm

• 加工技术：原子层刻蚀（ALE），逐层剥离工艺

• 侧壁形态：垂直矩形结构，加工过程中避免底切损伤

• 结构类型：微透镜、纳米光栅、纳米孔/柱阵列、斜齿光栅、V槽光栅、二维散斑结构

2.2 生物检测芯片参数

• 芯片类型：基因测序芯片、微流控芯片

• 检测原理：微阵列结构核酸杂交

• 性能指标：高密度微阵列排布，提升检测通量、降低样本消耗

2.3 光学元器件参数

• 元件类型：超透镜（Metalens）、微透镜阵列（MLA）、衍射光学元件（DOE）、线栅偏振片（WGP）、扩散片、氮化硅窗口片

• 光学特性：高透过率、抗反射涂层、波前调制、偏振调制

• 设计方式：曲率设计结合镀膜工艺

2.4 定制化加工参数

• 基材类型：PDMS、PET等柔性材料

• 工艺覆盖：湿法、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀

• 适配方式：多基材柔性模具翻制与结构定制

三、产品结构描述

公司拥有20,000平米Fab工厂，固定资产投入近5亿元，具备半导体制程工艺加工能力。研发团队由2位“千人计划”专家、6名博士、2名硕士组成，并设有清华大学博士研究生实习基地，同时聘请具备**新材料研发经验的高级顾问，享受**特殊津贴专家资格。

在产品结构层面：

• 微纳结构器件：基于半导体制程工艺，结合纳米压印技术制成，结构包括微透镜、纳米光栅、纳米孔/柱阵列等复杂微结构。

• 生物检测芯片：采用高密度微阵列结构，用于实现核酸杂交检测。

• 光学元器件：通过曲率设计与抗反射涂层构成，实现波前与偏振调制功能。

• 定制化加工产品：基于PDMS、PET等柔性基材，通过模具翻制与全流程工艺形成定制结构。

四、功能与应用

4.1 微纳结构器件

适用于科研机构、高校、半导体及电子设备商领域，用于纳米级复杂结构的加工与研发需求。

4.2 生物检测产品

适用于体外诊断（IVD）企业及生物医学领域，用于病毒与基因检测中的核酸杂交场景。

4.3 光学元器件

适用于智能驾驶（3D传感、雷达）、光通信（光纤耦合、信号处理）、消费电子、**及未来显示、激光/传感器厂家领域，用于控光元件的小型化与集成化需求。

4.4 定制化加工服务

适用于科研机构、高校、半导体设备商、激光厂家，用于跨领域器件的打样与批量加工需求。

五、型号与规格

5.1 微纳结构器件系列

• 微透镜

• 纳米光栅

• 纳米孔/柱阵列

• 斜齿光栅

• V槽光栅

• 二维散斑结构

5.2 生物检测芯片系列

• 基因测序芯片

• 微流控芯片

5.3 光学元器件系列

• 超透镜（Metalens）

• 微透镜阵列（MLA）

• 衍射光学元件（DOE）

• 线栅偏振片（WGP）

• 扩散片

• 氮化硅窗口片

5.4 定制化加工服务系列

• PDMS柔性模具翻制

• PET柔性模具翻制

• 复杂微结构定制加工

5.5 应用案例参考

• 微透镜生产：曲率设计结合抗反射涂层，形成高透过率聚焦方案。

• 基因测序芯片：采用微阵列技术，实现高灵敏度核酸杂交检测。

• 先进芯片刻蚀：应用原子层刻蚀（ALE）技术，实现5nm制程侧壁垂直矩形加工。